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中微公司财报分析:刻蚀与MOCVD双线发展稳健 持续迭代新品向高端市场进阶

发布时间:2020-09-07  作者:科创板指数    

交易记录:

中微公司2020年上半年公布, 半年报,总收入为9.78亿元,同比增长22.14%,归属于母亲的净利润为1.19亿元,同比增长291.98%。

简短评论:

一、20H1性能稳步提升。晶圆生产线恢复建设后,预计将动员设备。出货20H 1年收入9.78亿元,同比增长22.14%;归属于母亲的净利润1.19亿元,同比增长291.98%。其中,Q2单季度收入为5.66亿元,同比增长33%,归属于母亲的净利润为9300万元,同比增长461.54%。产品方面:(1)特种设备收入7.1亿元,同比增长6.78%。(2)备件收入2.55亿元,同比增长99.21%。(3)设备维修业务收入1300万元,同比增长85.80%。公司业绩稳定,得益于刻蚀设备、金属有机化学气相沉积等设备积累的先进技术和国内置换形成的优质客户群。

二是主营业务刻蚀和MOCVD稳步增长,不断发展和开拓高端市场。刻蚀和MOCVD是该公司的主要业务,占73%。公司不断开发和升级产品线。(1)在刻蚀,设备方面,逻辑芯片制造过程中的高端刻蚀设备已被国际知名客户用于65-,的5纳米晶圆生产线,5纳米刻蚀设备已在几个关键步骤中使用,并已获得行业领先客户的批量订单,以便根据客户需求研发5纳米以下的刻蚀。CCP 刻蚀公司的设备可应用于64层3D和大规模生产,并正在开发新一代128层关键刻蚀应用产品。此外,该公司的ICP 刻蚀设备是在几个逻辑芯片和存储芯片制造商的生产线上大规模生产的,ICP 刻蚀要求的产品如7纳米以下的逻辑芯片、1X纳米动态随机存取存储器芯片和128层以上的3D与非门芯片的研发正在进行。

(2)在MOCVD设备方面,Prismo D-蓝和Prismo7 乐成实现了单腔14片4英寸外延片和单腔34片4英寸外延片的加工能力,其中Prismo 7在全球氮化镓基发光二极管MOCVD市场处于领先地位;紫外发光二极管金属有机化学气相沉积任天堂股票设备已在乐成,验证为行业领先客户,并已获得重复订单;微型金属有机化学气相沉积设备的研发有望取得成功,微型发光二极管和功率器件的金属有机化学气相沉积正在开发中,有望满足需求变化,抓住第一次机遇。公司不断研发新一代刻蚀和MOCVD技术,牢牢占据市场领先地位,开拓高端市场。

三.投入100亿元扩大前沿研发产能结构,通过内源延伸,投入2010万元研发平台公司,同比增长6.7%。聚焦刻蚀和主运行中心设备,丰富产品,开发新的产品。持有公司15%股份的沈阳拓景的PEVD/ALD技术已超过14纳米,正在接受中芯和常存的验证。占公司10%股份的睿励, 上海,膜厚测量设备处于世界领先地位,工艺节点达到28/14纳米。已进入三星电子、华虹, 长江仓储等生产线验证。而飞船已经不断突破。内生,公司将增加100亿元,扩大生产能力,加强研发。

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